連続式四プローブシート抵抗及び光学膜厚測定装置設計、チップ抵抗は針先距離の影響を受けない多種の型番を選択するために：
自動上下プレート（Cassette to cassette，C 2 C）
室温から100°Cまでの測定（より高くオプション）
マルチキャビティ型のクラスター型アーキテクチャデバイス（cluster tool）に追加および統合可能

連続式設備内に四プローブシートの抵抗及び光学膜厚測定を加えることもでき、薄膜太陽光（銅インジウムガリウムセレン、CIGS）及び平板表示業界に適している

基材の寸法：
450 mmウェハ（サンプルテーブル回転）
370 x 470 mm長方形ベース（XYサンプルテーブル）
連続式設備はサイズ制限なしでオーダーメイドが可能
シート抵抗測定は金属薄膜、銅インジウムガリウムセレン、アモルファスシリコン（シリコン）、テルル化カドミウム、モリブデン、透明導電薄膜（AlZnO 2）、ドーピング後のシリコン（シリコン）、シリコンゲルマニウム及びゲルマニウムに適している
0.1～100000単位面積オウム（オプション）

連続式（INLINE）のラインに統合でき、収集した測定データはSCADAシステムに自動的に送信される
光学膜厚測定機能オプション
測定スポット<1 mm
波長：380-1050 nm
測定可能膜厚：15-50 nm、最大250 nm
短時間繰り返し性：~ 0.1 nm
長時間反復性：~ 0.1 nm